靜態(tài)結晶設備用于結晶操作的設備。結晶器的類(lèi)型很多,按溶液獲得過(guò)飽和狀態(tài)的方法可分蒸發(fā)結晶器和冷卻結晶器;按流動(dòng)方式可分母液循環(huán)結晶器和晶漿(即母液和晶體的混合物)循環(huán)結晶器;按操作方式可分連續結晶器和間歇結晶器。 靜態(tài)結晶設備的特點(diǎn)是容積大,晶體攪拌所需的動(dòng)力小。此設備整個(gè)過(guò)程可以實(shí)現*密閉操作生產(chǎn),尤其對于高度危害的物料顯得尤為重要。
靜態(tài)結晶設備是一種用于制備高純度晶體的工業(yè)設備。它通常由一個(gè)反應釜和一個(gè)附著(zhù)在釜底部的結晶器組成。
以下是其使用方法的概述。
首先,將需要結晶的化合物加入到反應釜中,并在其中添加溶劑。這個(gè)步驟也可以在反應釜外面進(jìn)行,然后將混合物注入反應釜內。
接下來(lái),通過(guò)對混合物進(jìn)行增溫或者冷卻,控制反應釜內的溫度,促使溶解度下降并形成晶核。如果需要在晶核周?chē)a(chǎn)生更多的晶體,則可以通過(guò)較慢地降低溫度來(lái)實(shí)現。反之,如果需要快速生成較少的大晶體,則可以通過(guò)快速降溫來(lái)實(shí)現。
在晶體開(kāi)始生長(cháng)后,可以通過(guò)在結晶器底部收集晶體來(lái)控制晶體的大小和數量。當采用一定比例的溶劑時(shí),可以獲得更優(yōu)質(zhì)的晶體。
最后,對于一些需要經(jīng)過(guò)多次結晶才能達到高純度的化合物,可以通過(guò)將新的晶體與已有的晶體混合,再進(jìn)行一次結晶以獲得更高的純度。
總之,靜態(tài)結晶設備是一種實(shí)用的工業(yè)設備,它可以以高效且可重復的方式制備高質(zhì)量的晶體,并在許多領(lǐng)域中得到應用。